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- 所在地:河北 邢臺市
晶體生長設(shè)備特點(diǎn)及優(yōu)勢簡述:
1. 單晶爐可自動控制N型<111>、P型<100>單晶硅棒的生長;
2.單晶爐速度控制精度≤FS3%;
3.單晶爐熔料量CZ-80A型70KG、CZ-90AI型100KG;
4.單晶爐增加了功率因數(shù)補(bǔ)償實(shí)現(xiàn)了節(jié)能;
5.單晶爐采用自主設(shè)計(jì)研發(fā)的18″、20″熱系統(tǒng),晶體生長條件狀態(tài)好,產(chǎn)品成品率高,損耗小,生產(chǎn)效率高。
6.單晶爐下傳動部分采用新型的盲道+機(jī)械密封+磁流體密封的結(jié)構(gòu),提高了真空度。
7.單晶爐在大功率直拉單晶爐上首次采用了PLC自控系統(tǒng)和諧波抑制系統(tǒng),提高了電氣系統(tǒng)的高穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)了無電網(wǎng)污染。
8.單晶爐獨(dú)特的冷卻結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可達(dá)到最佳的溫度梯度,從而抑制了熔體的熱對流。
9.單晶爐自主研發(fā)的18″、20″復(fù)合式熱系統(tǒng) (帶有熱屏和矮加熱器組成的復(fù)合式熱系統(tǒng)),更進(jìn)一步抑制熔體的熱對流,并加速了結(jié)晶潛熱的排放,有效地降低了硅中的氧含量,并提高了氧在硅晶體中分布的均勻性,目前正在申報(bào)國家專利。
10.單晶爐合理的導(dǎo)氣排氣結(jié)構(gòu),從而減少爐內(nèi)氣體的渦流現(xiàn)象;采用封閉式熱場涂層技術(shù),更進(jìn)一步降低了晶體的碳含量。