光伏 - 核心部件          馮•阿登納公司擁有真空工藝的專業技術并能提供光伏薄膜領域幾乎所有光譜的獨立的核心部件。電子束和等離子體技術適用于不同工藝溫度條件下，大面積的功能層和導電層的沉積。真空工藝技術可以在不同的基材上沉積極薄的涂層，諸如玻璃、硅片、金屬帶或塑料薄膜。

磁控濺射源      磁控濺射源在低壓和氬氣狀態下產生一個增強等離子體放電的磁場。通過正極氬離子轟擊作為負極的鍍膜材料（靶材），靶材表面的單個原子被撞擊出來。這些原子凝結在基片表面從而形成一個連續的薄膜。加入反應氣體，如氮氣或氧氣，可以進一步觸發等離子體化學反應。通過這種方法可以形成氮化物和氧化物薄膜。

      磁控濺射源可以實現大面積的高精度的復雜化合物沉積。因此，這些磁控濺射源形成了生產多種光伏薄膜系統的鍍膜工藝基礎。帶旋轉靶材的磁控濺射源      在濺射過程中圓柱形靶材保持旋轉，因此其表面剝離幾乎一致。與平面靶磁控濺射源相比，高達85%的靶材利用率和較高的工作壽命可以顯著降低鍍膜成本。磁控濺射       通過選擇合適的濺射源類型和靶材、加入適當的反應氣體，我們可以生產出絕大多數光伏膜層，同時膜層具有高上膜率和高均勻度。比如：透明導電層（ITO, ZnO:Al）背電極（Ag, Al, Mo等）鈍化層（SiNx:H）半導體前電極電子束槍      電子束槍被應用在金屬和電介質復合材料的高速蒸發上。大功率電子束以可編程的能量分布直接射向源材料。通過這種方式，電子束槍產生高溫和高蒸發率。熱蒸發物質沉積在表面并持續不斷地形成高質量的膜層。電子束蒸發        范圍廣泛的不同配置使得原材料和復合物的蒸發對光伏技術應用意義重大，比如：半導體層導電層（Mo, Ag, Al等）電介質層（防反射涂層：SiO2）