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設備用途：主要用于晶體硅太陽能電池制造中電池片的減反射膜生長，也可用于在電池片的背面沉積鈍化膜。
工藝流程：石墨舟及硅片準備→管內充氮氣→進舟→抽真空，壓力測試→氨氣預清理和檢查→管路抽真空，測漏，恒溫→預鍍膜→鍍膜→抽真空，壓力測試→清管路，充氮氣→退舟
技術特點Technical characteristics
5段控溫恒溫區
數字化控制，消除了模擬變量傳輸的干擾
工藝舟自動裝載
進口射頻電源，脈沖式放電
進口防腐蝕干泵
爐口的特殊設計
進口閥門及自動壓力調節、全進口VCR接頭
精確溫度控制系統
中央計算機集中控制
與進口產品工藝品質一致，具備優越的性價比優勢
業內領先的背面鈍化疊層膜技術，有效提高晶體硅電池的轉換效率
